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極薄シリコン酸化膜の形成と界面評価技術

野村滋, 福田永共著. -- リアライズ社, 1997. <TW10151003>
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極薄シリコン酸化膜の形成と界面評価技術

野村滋, 福田永共著. -- リアライズ社, 1997. <TW10151003>
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所蔵一覧 1件～1件（全1件）

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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 12号館 大型コーナー 549.8/N 001000833174X 配架済 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 12号館
配置場所 大型コーナー
請求記号 549.8/N
資料ID 001000833174X
状態 配架済
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 極薄シリコン酸化膜の形成と界面評価技術 / 野村滋, 福田永共著
ゴクウス シリコン サンカマク ノ ケイセイ ト カイメン ヒョウカ ギジュツ
出版・頒布事項 東京 : リアライズ社 , 1997.1
形態事項 144, 18p ; 30cm
巻号情報
ISBN 494765595X
注記 各章末:参考文献
学情ID BN15802817
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 野村, 滋
ノムラ シゲル <>
著者標目リンク 福田, 永
フクダ ヒサシ <>
ローカル分類標目 NDC:549.8
レコードID TW10151003
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