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シリコンウェーハ表面のクリーン化技術

柏木正弘, 服部毅編著. -- リアライズ社, 1995. <TW10176370>
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シリコンウェーハ表面のクリーン化技術

柏木正弘, 服部毅編著. -- リアライズ社, 1995. <TW10176370>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 12号館 大型コーナー 549.8/S 0010008577161 配架済 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 12号館
配置場所 大型コーナー
請求記号 549.8/S
資料ID 0010008577161
状態 配架済
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 シリコンウェーハ表面のクリーン化技術 / 柏木正弘, 服部毅編著
シリコン ウェーハ ヒョウメン ノ クリーンカ ギジュツ
出版・頒布事項 東京 : リアライズ社 , 1995.2
形態事項 333, 8p ; 30cm
巻号情報
ISBN 4947655755
注記 各章末:参考文献
学情ID BN13748765
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 柏木, 正弘
カシワギ, マサヒロ <>
著者標目リンク 服部, 毅
ハットリ, タケシ <>
分類標目 科学技術 NDLC:ND371
ローカル分類標目 NDC:549.8
件名標目等 シリコン(半導体)||シリコン(ハンドウタイ)
レコードID TW10176370
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