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シリコン熱酸化膜とその界面 : 基礎物性から超LSIへの応用まで

谷口研二[編]. -- リアライズ社, 1991. <TW10151379>
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シリコン熱酸化膜とその界面 : 基礎物性から超LSIへの応用まで

谷口研二[編]. -- リアライズ社, 1991. <TW10151379>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 12号館 開架室 549.8/S 0010008341737 配架済 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 12号館
配置場所 開架室
請求記号 549.8/S
資料ID 0010008341737
状態 配架済
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 シリコン熱酸化膜とその界面 : 基礎物性から超LSIへの応用まで / 谷口研二[編]
シリコン ネツ サンカ マク ト ソノ カイメン : キソ ブッセイ カラ チョウ LSI エノ オウヨウ マデ
出版・頒布事項 東京 : リアライズ社 , 1991.7
形態事項 422p ; 27cm
巻号情報
ISBN 4947655445
注記 各章末:参考文献
学情ID BN1064502X
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 谷口, 研二(1948-)
タニグチ, ケンジ <>
分類標目 科学技術 NDLC:ND371
ローカル分類標目 NDC:549.8
件名標目等 シリコン(半導体)||シリコン(ハンドウタイ)
レコードID TW10151379
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