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高分子のビ-ム加工 : 光・プラズマ・放射線の利用

田附重夫, 長田義仁, 嘉悦勲監修. -- シーエムシー, 1986. -- (TR ; no.85). <TW10021009>
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高分子のビ-ム加工 : 光・プラズマ・放射線の利用

田附重夫, 長田義仁, 嘉悦勲監修. -- シーエムシー, 1986. -- (TR ; no.85). <TW10021009>
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所蔵一覧 1件～1件（全1件）

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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 12号館 開架室 578/K 0010005292573 配架済 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 12号館
配置場所 開架室
請求記号 578/K
資料ID 0010005292573
状態 配架済
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 高分子のビ-ム加工 : 光・プラズマ・放射線の利用 / 田附重夫, 長田義仁, 嘉悦勲監修
コウブンシ ノ ビ-ム カコウ : ヒカリ ・ プラズマ ・ ホウシャセン ノ リヨウ
出版・頒布事項 東京 : シーエムシー
出版・頒布事項 東京 : ジスク(発売) , 1986.4
形態事項 vi,305p ; 27cm
書誌構造リンク TR <TW10021008> no.85
注記 各章末:文献
学情ID BN0693190X
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 田附, 重夫
タズケ, シゲオ <>
著者標目リンク 長田, 義仁(1943-)
オサダ, ヨシヒト <>
著者標目リンク 嘉悦, 勲(1934-)
カエツ, イサオ <>
分類標目 高分子化学工業 NDC8:578
分類標目 科学技術 NDLC:PA431
ローカル分類標目 NDC:578
件名標目等 高分子化学
件名標目等 高分子化合物と放射線
レコードID TW10021009
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