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最新ガスバリア薄膜技術 : ハイグレードガスバリアフィルムの実用化に向けて
中山弘, 小川倉一監修. -- シーエムシー出版, 2011. <BB00396992>
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最新ガスバリア薄膜技術 : ハイグレードガスバリアフィルムの実用化に向けて
中山弘, 小川倉一監修. -- シーエムシー出版, 2011. <BB00396992>
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1件~1件(全1件)
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10件
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50件
100件
No.
巻号
所蔵館
配置場所
請求記号
資料ID
状態
返却予定日
予約
WEB書棚
0001
12号館
開架室
549.8/S
0010013608126
配架済
0件
No.
0001
巻号
所蔵館
12号館
配置場所
開架室
請求記号
549.8/S
資料ID
0010013608126
状態
配架済
返却予定日
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書誌詳細
標題および責任表示
最新ガスバリア薄膜技術 : ハイグレードガスバリアフィルムの実用化に向けて / 中山弘, 小川倉一監修
サイシン ガスバリア ハクマク ギジュツ : ハイ グレード ガスバリア フィルム ノ ジツヨウカ ニ ムケテ
出版・頒布事項
東京 : シーエムシー出版 , 2011.4
形態事項
vii, 232p ; 27cm
巻号情報
ISBN
9784781303185
その他の標題
標題紙タイトル:Advanced thin‐film processes for gas‐barrier films : toward the industrialization of high‐grade gas‐barrier films for electronics
その他の標題
その他のタイトル:エレクトロニクスシリーズ
エレクトロニクス シリーズ
その他の標題
その他のタイトル:High technology information
注記
ブックジャケットに「エレクトロニクスシリーズ」「High technology information」との表示あり
注記
文献: あり
学情ID
BB05928563
本文言語コード
日本語
著者標目リンク
中山, 弘||ナカヤマ, ヒロシ <AU00199030>
著者標目リンク
小川, 倉一
オガワ, ソウイチ <>
分類標目
電子工学 NDC8:549.8
分類標目
電子工学 NDC9:549.8
ローカル分類標目
NDC9:549.8
件名標目等
薄膜||ハクマク
レコードID
BB00396992
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