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ナノテクノロジーとレジスト材料

山岡亞夫監修. -- シーエムシー出版, 2007. -- (CMCテクニカルライブラリー ; 256). <BB00286206>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 12号館 開架室 549.7/N 001001283520X 配架済 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 12号館
配置場所 開架室
請求記号 549.7/N
資料ID 001001283520X
状態 配架済
返却予定日
予約 0件
WEB書棚

書誌詳細

標題および責任表示 ナノテクノロジーとレジスト材料 / 山岡亞夫監修
ナノテクノロジー ト レジスト ザイリョウ
出版・頒布事項 東京 : シーエムシー出版 , 2007.4
形態事項 vi, 253p ; 21cm
巻号情報
ISBN 9784882319214
書誌構造リンク CMCテクニカルライブラリー||CMC テクニカル ライブラリー <BB00049616> 256//a
その他の標題 その他のタイトル:新しいレジスト材料とナノテクノロジー
アタラシイ レジスト ザイリョウ ト ナノテクノロジー
その他の標題 標題紙タイトル:Nano technology and polymer resist
注記 初版 (2002年) のタイトル: 新しいレジスト材料とナノテクノロジー
学情ID BA81772932
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 山岡, 亜夫(1939-)||ヤマオカ, ツグオ <AU00108672>
分類標目 電子工学 NDC8:549.7
分類標目 電子工学 NDC9:549.7
ローカル分類標目 NDC9:549.7
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
件名標目等 ナノテクノロジー||ナノテクノロジー
レコードID BB00286206