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液浸リソグラフィのプロセスと材料

東木達彦監修 = Process and ingredient of immersion lithography / supervisor, Tatsuhiko Higashiki. -- シーエムシー出版, 2006. <BB00302157>
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液浸リソグラフィのプロセスと材料

東木達彦監修 = Process and ingredient of immersion lithography / supervisor, Tatsuhiko Higashiki. -- シーエムシー出版, 2006. <BB00302157>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 12号館 開架室 549.7/E 0010012897469 配架済 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 12号館
配置場所 開架室
請求記号 549.7/E
資料ID 0010012897469
状態 配架済
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 液浸リソグラフィのプロセスと材料 / 東木達彦監修 = Process and ingredient of immersion lithography / supervisor, Tatsuhiko Higashiki
エキシン リソグラフィ ノ プロセス ト ザイリョウ
出版・頒布事項 東京 : シーエムシー出版 , 2006.10
形態事項 v, 243p : 挿図 ; 27cm
巻号情報
ISBN 488231584X
注記 文献: 各章末
学情ID BA79534578
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 東木, 達彦
ヒガシキ, タツヒコ <>
分類標目 電子工学 NDC8:549.7
分類標目 電子工学 NDC9:549.7
ローカル分類標目 NDC9:549.7
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
レコードID BB00302157
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