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Plasma etching : fundamentals and applications

M. Sugawara ; with contributions from Barry L. Stansfield ... [et al.]. -- Oxford University Press, 1998. -- (Series on semiconductor science and technology ; 7). <TY10088892>
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Plasma etching : fundamentals and applications

M. Sugawara ; with contributions from Barry L. Stansfield ... [et al.]. -- Oxford University Press, 1998. -- (Series on semiconductor science and technology ; 7). <TY10088892>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 12号館 開架室 427.6/S 0010008402639 配架済 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 12号館
配置場所 開架室
請求記号 427.6/S
資料ID 0010008402639
状態 配架済
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 Plasma etching : fundamentals and applications / M. Sugawara ; with contributions from Barry L. Stansfield ... [et al.]
出版・頒布事項 Oxford : Oxford University Press , 1998
形態事項 viii, 347 p., [2] p. of plates : ill. ; 24 cm
巻号情報
ISBN 019856287X
書誌構造リンク Series on semiconductor science and technology <TY10088894> 7
注記 Includes bibliographical references and index
学情ID BA37045123
本文言語コード 英語
著者標目リンク *菅原, 実
スガワラ, ミノル <>
著者標目リンク Stansfield, Barry L. <>
ローカル著者標目 Sugawara, M.
分類標目 LCC:TK7871.85
分類標目 DC21:621.3815/31
ローカル分類標目 NDC:427.6
件名標目等 Semiconductors -- Etching
件名標目等 Plasma etching
レコードID TY10088892
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