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Modeling of film deposition for microelectronic applications

edited by Stephen Rossnagel. -- Academic Press, 1996. -- (Thin films ; v. 22). <TY10070387>
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所蔵一覧 1件~2件(全2件)

No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 12号館 開架室 431.89/P/22 001000784042X 配架済 0件
0002 12号館 開架室 431.89/P/22 0010009335935 配架済 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 12号館
配置場所 開架室
請求記号 431.89/P/22
資料ID 001000784042X
状態 配架済
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
No. 0002
巻号
所蔵館 12号館
配置場所 開架室
請求記号 431.89/P/22
資料ID 0010009335935
状態 配架済
返却予定日
予約 0件
WEB書棚

書誌詳細

標題および責任表示 Modeling of film deposition for microelectronic applications / edited by Stephen Rossnagel
出版・頒布事項 San Diego ; Tokyo : Academic Press , c1996
形態事項 xiv, 291 p., [3] p. of plates : ill. (some col.) ; 24 cm
巻号情報
ISBN 0125330227
書誌構造リンク Thin films <TY10070389> v. 22//b
注記 Includes bibliographical references and indexes
学情ID BA28758239
本文言語コード 英語
著者標目リンク Francombe, Maurice H. <AU00039119>
著者標目リンク Vossen, John L. <AU00039121>
ローカル分類標目 NDC:431.89
ローカル分類標目 NDC9:431.86
件名標目等 Thin films
レコードID TY10070387