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Plasma sources for thin film deposition and etching

edited by Maurice H. Francombe, John L. Vossen. -- Academic Press, 1994. -- (Physics of thin films : advances in research and development ; v. 18). <TY10060311>
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Plasma sources for thin film deposition and etching

edited by Maurice H. Francombe, John L. Vossen. -- Academic Press, 1994. -- (Physics of thin films : advances in research and development ; v. 18). <TY10060311>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 12号館 開架室 431.89/P/18 0010007823819 配架済 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 12号館
配置場所 開架室
請求記号 431.89/P/18
資料ID 0010007823819
状態 配架済
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 Plasma sources for thin film deposition and etching / edited by Maurice H. Francombe, John L. Vossen
出版・頒布事項 San Diego ; Tokyo : Academic Press , c1994
形態事項 xii, 328 p. : ill. ; 24 cm
巻号情報
ISBN 0125330189
書誌構造リンク Physics of thin films : advances in research and development <TY10060291> v. 18//b
注記 Includes bibliographical references and indexes
学情ID BA23592456
本文言語コード 英語
著者標目リンク Francombe, Maurice H. <AU00039119>
著者標目リンク Vossen, John L. <AU00039121>
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
ローカル分類標目 NDC:431.89
ローカル分類標目 NDC:541.7
レコードID TY10060311
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