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Resists in microlithography and printing

Bohumil Bednář, Jaroslav Králíček, and Jaromír Zachoval ; with contributions by Andrey V. Yelcov and Tatyana A. Yurre. -- 2nd rev. ed. -- Elsevier, 1993. -- (Materials science monographs ; 76). <TY10006524>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 12号館 開架室 501.4/M/76 001000510954X 配架済 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 12号館
配置場所 開架室
請求記号 501.4/M/76
資料ID 001000510954X
状態 配架済
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 Resists in microlithography and printing / Bohumil Bednář, Jaroslav Králíček, and Jaromír Zachoval ; with contributions by Andrey V. Yelcov and Tatyana A. Yurre
版事項 2nd rev. ed
出版・頒布事項 Amsterdam ; Tokyo : Elsevier , 1993
形態事項 376 p. : ill. ; 25 cm
巻号情報
ISBN 0444988467
書誌構造リンク Materials science monographs <TY10001898> 76
その他の標題 原タイトル:Litografické techniky
注記 Translation of: Litografické techniky
注記 Includes bibliographical references and index
学情ID BA20897060
本文言語コード 英語
著者標目リンク *Bednar, J. Bee <>
著者標目リンク Králíček, Jaroslav <>
著者標目リンク Zachoval, Jaromír <>
統一書名標目リンク Litografické techniky <>
分類標目 LCC:TK7871.85
分類標目 DC20:621.381/52
ローカル分類標目 NDC:501.4
件名標目等 Semiconductors -- Design and construction
件名標目等 Integrated circuits -- Very large scale integration -- Design and construction
件名標目等 Microlithography
件名標目等 X-ray lithography
件名標目等 Lithography, Electron beam
レコードID TY10006524