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X-ray diffraction at elevated temperatures : a method for in situ process analysis

D.D.L. Chung ... [et al.]. -- VCH, 1993. <TY10021259>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 WEB書棚
0001 12号館 開架室 459.96/X 0010006594816 配架済
No. 0001
巻号
所蔵館 12号館
配置場所 開架室
請求記号 459.96/X
資料ID 0010006594816
状態 配架済
返却予定日
WEB書棚

書誌詳細

標題および責任表示 X-ray diffraction at elevated temperatures : a method for in situ process analysis / D.D.L. Chung ... [et al.]
出版・頒布事項 New York : VCH , c1993
形態事項 viii, 268 p. : ill. ; 24 cm
巻号情報
ISBN 0895737450
巻号情報
ISBN 3527278427
注記 Includes bibliographical references and index
学情ID BA20536040
本文言語コード 英語
著者標目リンク Chung, Deborah D. L. <>
分類標目 LCC:QC482.D5
分類標目 DC20:548/.83
ローカル分類標目 NDC:459.96
件名標目等 X-rays -- Diffraction
件名標目等 X-rays -- Industrial applications
レコードID TY10021259