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X-ray diffraction at elevated temperatures : a method for in situ process analysis
D.D.L. Chung ... [et al.]. -- VCH, 1993. <TY10021259>
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X-ray diffraction at elevated temperatures : a method for in situ process analysis
D.D.L. Chung ... [et al.]. -- VCH, 1993. <TY10021259>
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No.
巻号
所蔵館
配置場所
請求記号
資料ID
状態
返却予定日
WEB書棚
0001
12号館
開架室
459.96/X
0010006594816
配架済
No.
0001
巻号
所蔵館
12号館
配置場所
開架室
請求記号
459.96/X
資料ID
0010006594816
状態
配架済
返却予定日
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書誌詳細
標題および責任表示
X-ray diffraction at elevated temperatures : a method for in situ process analysis / D.D.L. Chung ... [et al.]
出版・頒布事項
New York : VCH , c1993
形態事項
viii, 268 p. : ill. ; 24 cm
巻号情報
ISBN
0895737450
巻号情報
ISBN
3527278427
注記
Includes bibliographical references and index
学情ID
BA20536040
本文言語コード
英語
著者標目リンク
Chung, Deborah D. L. <>
分類標目
LCC:QC482.D5
分類標目
DC20:548/.83
ローカル分類標目
NDC:459.96
件名標目等
X-rays -- Diffraction
件名標目等
X-rays -- Industrial applications
レコードID
TY10021259
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