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Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions

edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood. -- Noyes, 1990. -- (Materials science and process technology series). <TY10023096>
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Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions

edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood. -- Noyes, 1990. -- (Materials science and process technology series). <TY10023096>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約 WEB書棚
0001 12号館 開架室 427.56/H 001000661146X 配架済 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 12号館
配置場所 開架室
請求記号 427.56/H
資料ID 001000661146X
状態 配架済
返却予定日
予約 0件
WEB書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions / edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
出版・頒布事項 Park Ridge, N.J. : Noyes , c1990
形態事項 xxiii, 523 p. : ill. ; 25 cm
巻号情報
ISBN 0815512201
書誌構造リンク Materials science and process technology series <TY10031587>
注記 Includes bibliographical references and index
学情ID BA18754617
本文言語コード 英語
著者標目リンク Rossnagel, Stephen M. <>
著者標目リンク Cuomo, J. J. <>
著者標目リンク Westwood, William D. (William Dickson), 1937- <>
分類標目 LCC:TA2020
分類標目 DC19:621.044
ローカル分類標目 NDC:427.56
件名標目等 Plasma engineering
件名標目等 Semiconductors -- Etching
件名標目等 Plasma etching
レコードID TY10023096
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