ログイン
目録検索 ▼
検索トップへ
分類検索
雑誌タイトルリスト
リポジトリ一覧
新着案内
貸出ランキング
アクセスランキング
レビュー一覧
タグ検索
参照ランキング
利用者サービス ▼
利用状況の確認
ブックマーク
お気に入り検索
レビュー履歴
タグ履歴
ILL複写依頼
ILL貸借依頼
≡
書誌詳細
東海大学蔵書検索
検索結果一覧へ戻る
シリコン熱酸化膜とその界面 : 基礎物性から超LSIへの応用まで
谷口研二[編]. -- リアライズ社, 1991. <TW10151379>
登録タグ:
登録されているタグはありません
便利機能:
エクスポート先選択
エクスポート先を選択してください。
このウインドウを閉じる
目次・あらすじを見る
レビューを見る
詳細情報を見る
書誌URL:
シリコン熱酸化膜とその界面 : 基礎物性から超LSIへの応用まで
谷口研二[編]. -- リアライズ社, 1991. <TW10151379>
登録タグ:
登録されているタグはありません
便利機能:
エクスポート先選択
エクスポート先を選択してください。
このウインドウを閉じる
目次・あらすじを見る
レビューを見る
詳細情報を見る
書誌URL:
所蔵一覧
1件~1件(全1件)
ナンバーをクリックすると所蔵詳細をみることができます。
10件
20件
50件
100件
No.
巻号
所蔵館
配置場所
請求記号
資料ID
状態
返却予定日
予約
WEB書棚
0001
12号館
開架室
549.8/S
0010008341737
配架済
0件
No.
0001
巻号
所蔵館
12号館
配置場所
開架室
請求記号
549.8/S
資料ID
0010008341737
状態
配架済
返却予定日
予約
0件
WEB書棚
このページのTOPへ
目次・あらすじ
このページのTOPへ
レビュー
このページのTOPへ
書誌詳細
標題および責任表示
シリコン熱酸化膜とその界面 : 基礎物性から超LSIへの応用まで / 谷口研二[編]
シリコン ネツ サンカ マク ト ソノ カイメン : キソ ブッセイ カラ チョウ LSI エノ オウヨウ マデ
出版・頒布事項
東京 : リアライズ社 , 1991.7
形態事項
422p ; 27cm
巻号情報
ISBN
4947655445
注記
各章末:参考文献
学情ID
BN1064502X
本文言語コード
日本語
著者標目リンク
谷口, 研二(1948-)
タニグチ, ケンジ <>
分類標目
科学技術 NDLC:ND371
ローカル分類標目
NDC:549.8
件名標目等
シリコン(半導体)||シリコン(ハンドウタイ)
レコードID
TW10151379
このページのTOPへ
検索結果一覧へ戻る
このページのTOPへ
関連情報<<
関連情報
関連資料
分類からさがす
科学技術 NDLC:ND371
NDC:549.8
件名からさがす
シリコン(半導体)
他の検索サイトで探す
Google Books
WEB STORE
Knowledge Worker
WorldCat
NDLSearch
CiNii Books
他大学資料確認
他大学(NII):同一条件検索
他大学(NII):同一書誌検索
資料を取り寄せる
ILL複写依頼(コピー取り寄せ)
ILL貸借依頼(現物借用)
1人5冊まで、貸出期間=2週間
この書誌のQRコード