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マグネトロンスパッタリング法により形成したホウ素含有薄膜の機械的特性

神崎, 昌郎, 2005.09.30. -- (東海大学紀要. 工学部. Vol.45 No.1(2005)). w. <TC20003805>
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神崎, 昌郎, 2005.09.30. -- (東海大学紀要. 工学部. Vol.45 No.1(2005)). w. <TC20003805>
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kj00004442085.pdf

書誌詳細

タイトル マグネトロンスパッタリング法により形成したホウ素含有薄膜の機械的特性
タイトル(その他) Mechanical Properties of Boron Containing Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering Method
作成者 神崎, 昌郎
コウザキ, マサオ
Kohzaki, Masao
公開者 東海大学工学部
掲載巻号 東海大学紀要. 工学部. Vol.45 No.1(2005) <TB20000309>
ISSN 24343633
雑誌名 東海大学紀要. 工学部
巻次等 45
号 1
開始終了ページ 45-48
発行日 2005.09.30
主題 magnetron sputtering
主題 thin film
主題 boron
主題 B-C-N
主題 nanoindentation hardness
主題 adhesive strength
資料種別(NIIタイプ) 紀要論文
フォーマット PDFファイル
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