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	RFマグネトロンスパッタリング法により作製したBi12GeO20薄膜の結晶性の評価渋谷, 猛久; 室谷, 裕志; 一新, 賢二; 勝間, ひでとし; 若木, 守明; 横田, 英嗣, 2000.09.30. -- (東海大学紀要. 工学部. Vol.40 No.1(2000)). w. <TC20003625> 登録タグ：登録されているタグはありません便利機能：エクスポート先選択エクスポート先を選択してください。このウインドウを閉じるレビューを見る詳細情報を見る書誌URL：

RFマグネトロンスパッタリング法により作製したBi12GeO20薄膜の結晶性の評価渋谷, 猛久; 室谷, 裕志; 一新, 賢二; 勝間, ひでとし; 若木, 守明; 横田, 英嗣, 2000.09.30. -- (東海大学紀要. 工学部. Vol.40 No.1(2000)). w. <TC20003625> 登録タグ：登録されているタグはありません便利機能：エクスポート先選択エクスポート先を選択してください。このウインドウを閉じるレビューを見る詳細情報を見る書誌URL：

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kj00000121247.pdf

タイトル	RFマグネトロンスパッタリング法により作製したBi12GeO20薄膜の結晶性の評価
タイトル(その他)	Characterization of Crystal Quality of Bi12GeO20 Films Deposited by Using RF Magnetron Sputtering
作成者	渋谷, 猛久シブヤ, タケヒサ Shibuya, Takehisa
作成者	室谷, 裕志ムロタニ, ヒロシ Murotani, Hiroshi
作成者	一新, 賢二イッシン, ケンジ Isshin, Kenji
作成者	勝間, ひでとしカツマ, ヒデトシ Katsuma, Hidetoshi
作成者	若木, 守明ワカキ, モリアキ Wakaki, Moriaki
作成者	横田, 英嗣ヨコタ, ヒデシ Yokota, Hideshi
公開者	東海大学工学部
公開者	School of Engineering, Tokai University
公開者	東海大学出版会
掲載巻号	東海大学紀要. 工学部. Vol.40 No.1(2000) <TB20000299>
ISSN	24343633
雑誌名	東海大学紀要. 工学部
巻次等	40
号	1
開始終了ページ	49-52
発行日	2000.09.30
主題	Bismuth sillenite compounds
主題	BGO (Bi12GeO20)
主題	Film
主題	RF magnetron sputtering
資料種別(NIIタイプ)	紀要論文
フォーマット	PDFファイル