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厚いポーラスシリコンにおけるフォトエッチング効果
安森, 偉郎; 岡田, 工; 崔, 一煐; 佐藤, 洋一; 黒須, 楯生; 飯田, 昌盛, 1996.03.30. -- (東海大学紀要. 工学部. Vol.35 No.2(1995)). w. <TC20003353>
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厚いポーラスシリコンにおけるフォトエッチング効果
安森, 偉郎; 岡田, 工; 崔, 一煐; 佐藤, 洋一; 黒須, 楯生; 飯田, 昌盛, 1996.03.30. -- (東海大学紀要. 工学部. Vol.35 No.2(1995)). w. <TC20003353>
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書誌詳細
タイトル
厚いポーラスシリコンにおけるフォトエッチング効果
タイトル(その他)
Effect of Photoetching on Thick Porous Silicom
作成者
安森, 偉郎
ヤスモリ, ヨシオ
Yasumori, Yoshio
作成者
岡田, 工
オカダ, タクミ
Okada, Takumi
作成者
崔, 一煐
Choe, Il-yong
作成者
佐藤, 洋一
サトウ, ヨウイチ
Sato, Yoichi
作成者
黒須, 楯生
クロス, タテキ
Kurosu, Tateki
作成者
飯田, 昌盛
イイダ, マサモリ
Iida, Masamori
公開者
東海大学工学部
掲載巻号
東海大学紀要. 工学部. Vol.35 No.2(1995) <TB20000290>
ISSN
24343633
雑誌名
東海大学紀要. 工学部
巻次等
35
号
2
開始終了ページ
55-61
発行日
1996.03.30
主題
thick porous Si
主題
photoetching effect
主題
UV irradiation
主題
quantum size effect
資料種別(NIIタイプ)
紀要論文
フォーマット
PDFファイル
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