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プラズマ陰極型イオン源で作成したSiO2薄膜の光学特性

鈴木, 信孝; 渋谷, 猛久; 矢部, 栄二; 横田, 英嗣, 1991.10.30. -- (東海大学紀要. 工学部. Vol.31 No.1(1991)). w. <TC20003115>
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プラズマ陰極型イオン源で作成したSiO2薄膜の光学特性

鈴木, 信孝; 渋谷, 猛久; 矢部, 栄二; 横田, 英嗣, 1991.10.30. -- (東海大学紀要. 工学部. Vol.31 No.1(1991)). w. <TC20003115>
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kj00000120629.pdf

書誌詳細

タイトル プラズマ陰極型イオン源で作成したSiO2薄膜の光学特性
タイトル(その他) The Optical Properties of SiO2 Thin Films Produced by Ion-Beam Source with a Plasma Cathode
作成者 鈴木, 信孝
スズキ, ノブタカ
Suzuki, Nobutaka
作成者 渋谷, 猛久
シブヤ, タケヒサ
Shibuya, Takehisa
作成者 矢部, 栄二
ヤベ, エイジ
Yabe, Eiji
作成者 横田, 英嗣
ヨコタ, ヒデシ
Yokota, Hideshi
公開者 東海大学工学部
掲載巻号 東海大学紀要. 工学部. Vol.31 No.1(1991) <TB20000281>
ISSN 24343633
雑誌名 東海大学紀要. 工学部
巻次等 31
号 1
開始終了ページ 57-63
発行日 1991.10.30
主題 Optical thin film
主題 SiO2
主題 Ion-beam assisted deposition
主題 Ion source
主題 Plasma cathode
資料種別(NIIタイプ) 紀要論文
フォーマット PDFファイル
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