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イオンビームアシスト蒸着法によるSiNx膜の製作

岩瀬, 満雄; 小林, 博; 正木, 進; 森崎, 弘, 1991.10.30. -- (東海大学紀要. 工学部. Vol.31 No.1(1991)). w. <TC20003111>
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書誌詳細

タイトル イオンビームアシスト蒸着法によるSiNx膜の製作
タイトル(その他) Fabrication of SiNx Films by Ion-Beam-Assisted Deposition
作成者 岩瀬, 満雄
イワセ, ミツオ
Iwase, Mitsuo
作成者 小林, 博
コバヤシ, ヒロシ
Kobayashi, Hiroshi
作成者 正木, 進
マサキ, ススム
Masaki, Susumu
作成者 森崎, 弘
モリサキ, ヒロシ
Morisaki, Hiroshi
公開者 東海大学工学部
掲載巻号 東海大学紀要. 工学部. Vol.31 No.1(1991) <TB20000281>
ISSN 24343633
雑誌名 東海大学紀要. 工学部
巻次等 31
号 1
開始終了ページ 23-30
発行日 1991.10.30
主題 Ion-beam-assisted deposition
主題 Silicon-nitride
主題 Silicon oxynitride
主題 FT-IR
主題 ESCA
資料種別(NIIタイプ) 紀要論文
フォーマット PDFファイル