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	Study on the charge trapping phenomena in silicon carbonitride films for nonvolatile semiconductor memory applications Ahmed Sheikh Rashel Al. -- (博士学位論文 : 博士(工学) ;2017年度). w. <TD00000264> 登録タグ：登録されているタグはありません便利機能：エクスポート先選択エクスポート先を選択してください。このウインドウを閉じるレビューを見る詳細情報を見る書誌URL：

Study on the charge trapping phenomena in silicon carbonitride films for nonvolatile semiconductor memory applications Ahmed Sheikh Rashel Al. -- (博士学位論文 : 博士(工学) ;2017年度). w. <TD00000264> 登録タグ：登録されているタグはありません便利機能：エクスポート先選択エクスポート先を選択してください。このウインドウを閉じるレビューを見る詳細情報を見る書誌URL：

タイトル	Study on the charge trapping phenomena in silicon carbonitride films for nonvolatile semiconductor memory applications
タイトル(その他)	不揮発性半導体メモリへの応用のためのシリコン炭窒化膜の電荷捕獲現象に関する研究
タイトル(その他)	フキハツセイハンドウタイメモリエノオウヨウノタメノシリコンタンチッカマクノデンカホカクゲンショウニカンスルケンキュウ
作成者	Ahmed Sheikh Rashel Al アハメドシャイクラシェールアル
公開者	東海大学
本文リンク	内容の要旨
本文リンク	審査結果の要旨
本文リンク	全文
書誌構造リンク	博士学位論文 : 博士(工学)\|\|ハクシガクイロンブン : ハクシコウガク <TB00000001>2017年度
主題	nonvolatile memory
主題	silicon carbonitride
主題	charge centroid
主題	charge retention
主題	charge trap center
主題	不揮発性メモリ
主題	シリコン炭窒化膜
主題	電荷重心
主題	電荷保持特性
主題	電荷捕獲中心
資料種別(NIIタイプ)	学位論文
著者版フラグ	ETD
報告番号	甲第1035号
学位名	博士(工学)
学位授与年月日	2017.09.21
学位授与機関	東海大学
研究科	総合理工学研究科