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反応工学に基づく「化学気相成長法による成膜過程」の解析(2004年度 新任教員研究紹介)

秋山, 泰伸, 2006.03.31. -- (東海大学紀要. 工学部. Vol.45 No.2(2005)). w. <TC20003825>
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反応工学に基づく「化学気相成長法による成膜過程」の解析(2004年度 新任教員研究紹介)

秋山, 泰伸, 2006.03.31. -- (東海大学紀要. 工学部. Vol.45 No.2(2005)). w. <TC20003825>
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kj00004442115.pdf

書誌詳細

タイトル 反応工学に基づく「化学気相成長法による成膜過程」の解析(2004年度 新任教員研究紹介)
タイトル(その他) Analysis of Film Growth Process via Chemical Vapor Deposition based on Reaction Engineering(Introduction of research activities of new faculty members (2004))
作成者 秋山, 泰伸
アキヤマ, ヤスノブ
Akiyama, Yasunobu
公開者 東海大学工学部
掲載巻号 東海大学紀要. 工学部. Vol.45 No.2(2005) <TB20000310>
ISSN 24343633
雑誌名 東海大学紀要. 工学部
巻次等 45
号 2
開始終了ページ 115-120
発行日 2006.03.31
主題 CVD
主題 Chemical reaction
主題 Growth rate
主題 computational simulation
資料種別(NIIタイプ) 紀要論文
フォーマット PDFファイル
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