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	低温での微結晶ゲルマニウム薄膜の堆積とその膜の構造的・電気的特性中下, 俊夫; 牧, 孝介; 門前, 智也; 上原, 富美哉, 1998.10.30. -- (東海大学紀要. 工学部. Vol.38 No.1(1998)). w. <TC20003498> 登録タグ：登録されているタグはありません便利機能：エクスポート先選択エクスポート先を選択してください。このウインドウを閉じるレビューを見る詳細情報を見る書誌URL：

低温での微結晶ゲルマニウム薄膜の堆積とその膜の構造的・電気的特性中下, 俊夫; 牧, 孝介; 門前, 智也; 上原, 富美哉, 1998.10.30. -- (東海大学紀要. 工学部. Vol.38 No.1(1998)). w. <TC20003498> 登録タグ：登録されているタグはありません便利機能：エクスポート先選択エクスポート先を選択してください。このウインドウを閉じるレビューを見る詳細情報を見る書誌URL：

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kj00000121096.pdf

タイトル	低温での微結晶ゲルマニウム薄膜の堆積とその膜の構造的・電気的特性
タイトル(その他)	Deposition of Microcrystalline Ge Thin Films at Low Temperature and Structural and Electrical Properties
作成者	中下, 俊夫ナカシタ, トシオ Nakashita, Toshio
作成者	牧, 孝介マキ, コウスケ Maki, Kohsuke
作成者	門前, 智也モンゼン, トモヤ Monzen, Tomoya
作成者	上原, 富美哉ウエハラ, フミヤ Uehara, Fumiya
公開者	東海大学工学部
公開者	School of Engineering, Tokai University
公開者	東海大学出版会
掲載巻号	東海大学紀要. 工学部. Vol.38 No.1(1998) <TB20000295>
ISSN	24343633
雑誌名	東海大学紀要. 工学部
巻次等	38
号	1
開始終了ページ	67-72
発行日	1998.10.30
主題	Microcrystalline Ge
主題	Plasma CVD
主題	Low Temperature Deposition
主題	Electrical Property
資料種別(NIIタイプ)	紀要論文
フォーマット	PDFファイル