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厚いポーラスシリコンにおけるフォトエッチング効果

安森, 偉郎; 岡田, 工; 崔, 一煐; 佐藤, 洋一; 黒須, 楯生; 飯田, 昌盛, 1996.03.30. -- (東海大学紀要. 工学部. Vol.35 No.2(1995)). w. <TC20003353>
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書誌詳細

タイトル 厚いポーラスシリコンにおけるフォトエッチング効果
タイトル(その他) Effect of Photoetching on Thick Porous Silicom
作成者 安森, 偉郎
ヤスモリ, ヨシオ
Yasumori, Yoshio
作成者 岡田, 工
オカダ, タクミ
Okada, Takumi
作成者 崔, 一煐
Choe, Il-yong
作成者 佐藤, 洋一
サトウ, ヨウイチ
Sato, Yoichi
作成者 黒須, 楯生
クロス, タテキ
Kurosu, Tateki
作成者 飯田, 昌盛
イイダ, マサモリ
Iida, Masamori
公開者 東海大学工学部
掲載巻号 東海大学紀要. 工学部. Vol.35 No.2(1995) <TB20000290>
ISSN 24343633
雑誌名 東海大学紀要. 工学部
巻次等 35
号 2
開始終了ページ 55-61
発行日 1996.03.30
主題 thick porous Si
主題 photoetching effect
主題 UV irradiation
主題 quantum size effect
資料種別(NIIタイプ) 紀要論文
フォーマット PDFファイル