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スパッタ法によるSiゲート技術を用いて製作した集積回路(第1報)

崔, 一煐; 秋葉, 幸男; 黒須, 楯生; 飯田, 昌盛, 1985.10.25. -- (東海大学紀要. 工学部. Vol.25 No.1(1985)). w. <TC20002886>
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書誌詳細

タイトル スパッタ法によるSiゲート技術を用いて製作した集積回路(第1報)
タイトル(その他) Integrated Circuits Fabricated by Sputtered Si Gate Technique (I)
作成者 崔, 一煐
Choe, Il Yong
作成者 秋葉, 幸男
アキバ, ユキオ
Akiba, Yukio
作成者 黒須, 楯生
クロス, タテキ
Kurosu, Tateki
作成者 飯田, 昌盛
イイダ, マサモリ
Iida, Masamori
公開者 東海大学工学部
掲載巻号 東海大学紀要. 工学部. Vol.25 No.1(1985) <TB20000269>
ISSN 24343633
雑誌名 東海大学紀要. 工学部
巻次等 25
号 1
開始終了ページ 41-46
発行日 1985.10.25
資料種別(NIIタイプ) 紀要論文
フォーマット PDFファイル